Es analysiere präzise die Elementzusammensetzung von Metallen, chemischen und petrochemischen Stoffen und vielen anderen Materialien.
Die zahlreichen Verbesserungen im Spectro Arcos resultieren laut Hersteller zum einen aus einer Vielzahl von Kundenanregungen und zum anderen aus der kontinuierlichen Weiterentwicklung bewährter Technologien. Zu den wesentlichen Merkmalen zählen laut Spectro:
- Neue DSOI-Plasmabetrachtungsoption: Die neue Dual Side-On Interface (DSOI) Option mit zwei optischen Schnittstellen erhöhe die Nachweisempfindlichkeit und beseitige Probleme mit Verunreinigungen und Matrixkompatibilität, die bei Dual-View-Modellen mit vertikaler Fackel auftreten können. Wenn DSOI nicht benötigt wird, biete die Standardversion des Spectro Arcos mit Side-On-Plasma (SOP) ein spezielles radiales Single Side-On-Interface für hohe Stabilität und Präzision.
- MultiView-Plasmabetrachtungsoption: Die axiale Plasmabetrachtung biete eine hohe Nachweisempfindlichkeit und eigne sich hervorragend für die Spurenanalyse, während die radiale Plasmabetrachtung durch eine hohe Präzision punkte und ideal für hohe Matrixlast und organische Lösungen sei. Mit MultiView lasse sich die direkte Plasmabetrachtung des Spectro Arcos innerhalb von 90 Sekunden von radial nach axial umschalten.
- Fortschrittliche CMOS-Detektoren: Auf CMOS-Technologie basierende, Zeilendetektoren würden die Leistung herkömmlicher CCD-Detektoren (Charge-Coupled Device) übertreffen. Die CMOS-Technologie eliminiere „Blooming“ und ermögliche so die Erfassung kleiner Messsignale, selbst in direkter Nähe intensiver Linien. Sie biete einen großen Dynamikbereich und benötige keine Chipkühlung. Zudem seien die Einzelkosten für CMOS-Detektoren deutlich niedriger als bei 2D-Modellen.
- ORCA: Spectros ORCA (Optimized Rowland Circle Alignment) Polychromatortechnologie vermeide die Nachteile Echelle-basierter Optiken. Das Spectro Arcos liefere eine hohe Auflösung über einen weiten Spektralbereich – 130 bis 770 Nanometer (nm) – mit der branchenweit besten Transparenz unterhalb von 180 nm.
- Hochgeschwindigkeits-Auslesesystem: Dank vollständig simultaner Messung, schneller Auslese und des leistungsstarken Generators ist das Spectro Arcos sei in der Lage, einfachere Matrices in nur 30 Sekunden zu analysieren.
Darüber hinaus liefere ein 2.000-Watt-LDMOS (Laterally Diffused Metal Oxide Semiconductor)-Generator freilaufenden Typs die branchenweit beste Leistung. Und durch die UV-PLUS-Gasreinigungstechnologie sei eine Spülung des optischen Systems überflüssig – es werde keine Stabilisierungszeit benötigt, Verunreinigungen würden verhindert und beim Gasverbrauch können bis zu 3.000 € jährlich eingespart werden.
Das Spectro Arcos ist laut Hersteller in sechs Varianten erhältlich, je nach Wahl der Plasmabetrachtungstechnologie und des Wellenlängenbereichs..
